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基盤洗浄装置にリニスピードジャッキを採用。高速動作により洗浄品質の向上に貢献

リニスピードジャッキ

課題
高速・高頻度
業界
液晶・半導体・電子機器・通信
用途
直動する
製品
直動機器

概要

基板を自動で洗浄する装置にリニスピードジャッキを採用しました。洗浄液中で基板を入れたカゴを繰り返し上下させ、不純物を効率よく除去します。高頻度運転に対応したリニスピードジャッキにより、連続伸縮を安定して行い、洗浄品質と処理能力の向上を実現しました。


課題

基板洗浄工程では、カゴを何度も高速で上下動させる必要があり、直動機構部の負荷時間率が100%近くになる高負荷運転が求められていました。しかし、従来の油圧機構では速度と負荷時間率に制限があったため、十分な上下動作ができず、汚れ除去の確実性に課題がありました。


採用製品

リニスピードジャッキ

サーボモータの性能を最大限に活用できるボールネジ昇降ユニットです。

リニスピードジャッキは最高200mm/sの運転速度と最高100%EDの負荷時間率を達成し、装置の生産性向上に対応できます。

運転速度を上げても従来のジャッキより小形サイズで対応でき、さらに新開発構造により低床化を実現。装置のコンパクト化に貢献します。


製品採用による効果

リニスピードジャッキを採用することで、連続高速動作を安定して行えるようになり、洗浄液中での上下動作が十分に確保され、基板表面に付着した不純物を確実に除去できるようになりました。


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